影响电镀液覆盖能力的因素
发布时间：2021-07-01 16:58:06 点击次数：321
覆盖率是评价欲镀金特性能的指标之一。为了提高
1的覆盖率，首先要明了影响覆盖率的因素。在电镀过程中，只有当负极上的电位达到一定的值，溶液中的金属离子可以被还原成金属并沉积在负极表面。如果镀件某些部位的电位达不到电镀溶液的析出电位，则不会有金属离子在这些部位还原，所以不会形成金属镀层。这解释镀液的覆盖能力不好。影响电镀液遮盖的因素一般可以概括为以下三个方面。
1、电镀液特性的影响。金属的沉淀电位与电镀液的成份有关。有些金属在某些电镀液中可以在电流密度十分低的状况下沉积溶液，解释金属沉淀的过电位很小，或者沉淀电位较为正，这种电镀液的覆盖能力一定要好，比如酸性镀铜液，里面铜的沉淀电位是毫无疑问的。相反，覆盖能力不好。例如，在镀铬电解液中，Cr0~一个离子被还原成金属铬的沉淀电位是非常负的。在电镀部分的凹陷处，电镀溶液很低，使得这个地方的电位达不到C的电位，e+回复到C，只有Cr6+恢复为Cr3+，时有发生析氢副反应。并未金属铬的沉淀，所以镀铬液的覆盖能力很差。
2、基材特性的影响。实践说明，当金属在不同基体材质，同一种镀液的覆盖能力也有很大差别。例如用Cr0液在铜、镍、黄铜和钢上镀铬时，镀液的覆盖率依次降低。这是因为金属离子在不同基材上还原时的沉淀过电位值相差很大。金属在过电位小的基体上的析出电位比起正，即使在电流密度电位的较小部分也能实现析出，所以其覆盖能力较好。
3、基材表面状况的影响。基材表面状况对覆盖能力的影响较为繁复。一般情形下，镀液在光滑表面上的覆盖能力比在粗糙表面上好。这是因为高光滑度表面的真正电流密度大，易于达到沉淀电位金属，而粗糙的表面，由于其实际表面积大，实际上电流密度小，这使得某些部分难以达到金属的析出电位。无涂层沉积。
